搭载新型的洁净机械手,预对准和直驱走行轴,组成了可实现高产能的分拣系统。Load port可以搭载在EFEM前后两侧,可以根据需求实现后续LP增设和各种单体增加。可配合工厂OHT。
通过使用2台 Aligner实现高产能。
采用Edge Clamp持片方式,防止Particle被转移到晶圆的背面。
可读取Wafer 正反ID。
可在Touch Panel上执行转移指令,操作简单易懂。
搭载新型的洁净机械手,预对准和直驱走行轴,组成了可实现高产能的分拣系统。Load port可以搭载在EFEM前后两侧,可以根据需求实现后续LP增设和各种单体增加。可配合工厂OHT。
通过使用2台 Aligner实现高产能。
采用Edge Clamp持片方式,防止Particle被转移到晶圆的背面。
可读取Wafer 正反ID。
可在Touch Panel上执行转移指令,操作简单易懂。
型号: | RSC132 | ||||
Load Port数: | 2Port | ||||
搬送对象: | 300mm | Wafer : | Φ300±0.2mm | 厚度: | 775μm |
料盒: | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
电源电压: | 单相 AC200V±10% 50/60Hz±5% | ||||
电流消耗: | 4kVA (20A/200VAC) 含FFU在内 | ||||
真空(元压) : | -80kPa~-90kPa | ||||
真空(流量) : | 30L/min | ||||
Air(元压) : | 0.6MPa~0.7MPa | ||||
Air(流量) : | 20L/min |
型号: | RSC142 | ||||
Load Port数: | 3Port | ||||
搬送对象: | 300mm | Wafer : | Φ300±0.2mm | 厚度: | 775μm |
料盒: | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
电源电压: | 单相 AC200V±10% 50/60Hz±5% | ||||
电流消耗: | 4kVA (20A/200VAC) 含FFU在内 | ||||
真空(元压) : | -80kPa~-90kPa | ||||
真空(流量) : | 40L/min | ||||
Air(元压) : | 0.6MPa~0.7MPa | ||||
Air(流量) : | 30L/min |